隨著鈣鈦礦太陽(yáng)能電池功率轉(zhuǎn)換效率（PCE）超過(guò)24％，研究重點(diǎn)已經(jīng)轉(zhuǎn)移到商業(yè)化密切相關(guān)的問(wèn)題上。其中關(guān)鍵障礙之一是在大規(guī)模制造設(shè)備時(shí)很大程度地減少單元到模塊的PCE損耗。由于旋涂的工藝解決方案受限于可擴(kuò)展性，因此，建立可擴(kuò)展的鈣鈦礦層沉積工藝是大面積鈣鈦礦太陽(yáng)能電池組件的先決條件。

作為一種預(yù)先計(jì)量的涂布方法，狹縫涂布機(jī)在材料使用方面非常高效，與其他沉積方法(如旋轉(zhuǎn)涂布或噴涂和絲網(wǎng)印刷)相比，油墨的損耗水平非常低。

工藝原理

應(yīng)用于不同基材表面的涂布，如玻璃，不銹鋼和塑料基片；

通過(guò)預(yù)劑量計(jì)算，精確控制涂布頭相對(duì)于基底的移動(dòng)速度，及系統(tǒng)的供液速度，實(shí)現(xiàn)良好涂布。

關(guān)鍵優(yōu)勢(shì)

可涂布不同粘度的各種材料

涂布厚度范圍廣: 從20nm 到150μm以上

很好的涂布一致性: 通常優(yōu)于± 5%

效率高/材料利用率高: 材料利用率可達(dá)95%

能夠滿足不同需求：從研發(fā)到小批量試制

工藝具有高的可靠性和魯棒性: 良率可達(dá)到 95%

完善成熟的技術(shù)支持

涂布間隙控制：高精準(zhǔn)，動(dòng)態(tài)控制涂布頭高度 (z軸)

控制參數(shù)

模具運(yùn)動(dòng)控制: 在涂布方向上(x軸)精確控制模具的運(yùn)動(dòng)軌跡(包括加速和減速參數(shù))

涂布頭設(shè)計(jì): 針對(duì)高一致性、化學(xué)兼容性、低充填容量和條狀涂布進(jìn)行模具設(shè)計(jì)制造

涂布控制: 涂布速率(穩(wěn)態(tài)涂布) 和厚邊效應(yīng) (前后邊緣)的高精度數(shù)字化控制

控制軟件: 所有配方參數(shù)，數(shù)據(jù)監(jiān)控和反饋控制，數(shù)據(jù)采集分析

涂布面積：200*200mm起，大至300*400mm