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加熱臺是一種用于加熱實驗室器皿或樣品的設(shè)備,主要用于科研、教學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)中的加熱實驗。其具有加熱均勻、溫度控制精確、安全可靠等特點,廣泛應(yīng)用于化學(xué)、生物、醫(yī)藥、食品等領(lǐng)域。本系列精密加熱臺采用定制大功率加熱元件作為熱源,配合寬廣接觸面為整個面板提供準(zhǔn)確且均勻的溫度。儀器防塵蓋、鉸鏈、熱體支座都采用隔熱性能良好的無機材料并配有輻射反射面,大限度減少熱量損失提高溫度響應(yīng),在高溫下也能保持無煙無塵,符合潔凈間的需求。熱臺配有真空吸附孔,能及時排空基片下降到臺面時間隙內(nèi)的空氣,通過大氣壓力減少基片和加熱面板間的距離,是加熱薄基板、大尺寸晶圓的理想選擇。
產(chǎn)品特點
7寸全彩觸屏控制,高級PLC控制,指定時間內(nèi)自動升降,可以定時取片,操作更簡便
陽極氧化鋁耐腐蝕加熱面板
支持4/6/8/12寸晶硅片
溫度準(zhǔn)確度±1℃(封閉無氣流擾動狀態(tài)下)
任意設(shè)置頂針高度,實現(xiàn)無接觸式加熱
溫度分辨率0.1℃
采用加熱控制一體式設(shè)計,配有防漏電開關(guān),安全可靠
設(shè)計過溫保護功能,確保使用過程中的安全
智能控制系統(tǒng),可分30個程序段控溫
帶真空吸附功能
技術(shù)參數(shù)
電壓: 220V 電流 50Hz-60Hz
加熱區(qū)域: 220*220(mm)
有效恒溫范圍: 200*200(mm)
控溫范圍: 室溫-200℃/室溫-300℃(可選)
溫度分辨率: 0.1℃
溫度均勻性: ±%1℃(封閉無氣流擾動狀態(tài)下)
頂針高度: 30mm(可以多段高度設(shè)置)
時間設(shè)置: 1s-3000s
功率: 2000W(9A)/2500W(9A)(可選)
蓋內(nèi)空高度 : 38mm
真空接口: 設(shè)備后板出口外徑6mm
真空輸入要求: -0.04~-0.09Mpa
線性升溫: 1-15℃/min,升溫速率可調(diào)
主機產(chǎn)品尺寸: 300*400*350(mm)/485*389*305(mm)(可選)
加熱臺是一種用于加熱實驗室器皿或樣品的設(shè)備,主要用于科研、教學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)中的加熱實驗。其具有加熱均勻、溫度控制精確、安全可靠等特點,廣泛應(yīng)用于化學(xué)、生物、醫(yī)藥、食品等領(lǐng)域。本系列精密加熱臺采用定制大功率加熱元件作為熱源,配合寬廣接觸面為整個面板提供準(zhǔn)確且均勻的溫度。儀器防塵蓋、鉸鏈、熱體支座都采用隔熱性能良好的無機材料并配有輻射反射面,大限度減少熱量損失提高溫度響應(yīng),在高溫下也能保持無煙無塵,符合潔凈間的需求。熱臺配有真空吸附孔,能及時排空基片下降到臺面時間隙內(nèi)的空氣,通過大氣壓力減少基片和加熱面板間的距離,是加熱薄基板、大尺寸晶圓的理想選擇。
產(chǎn)品特點
7寸全彩觸屏控制,高級PLC控制,指定時間內(nèi)自動升降,可以定時取片,操作更簡便
陽極氧化鋁耐腐蝕加熱面板
支持4/6/8/12寸晶硅片
溫度準(zhǔn)確度±1℃(封閉無氣流擾動狀態(tài)下)
任意設(shè)置頂針高度,實現(xiàn)無接觸式加熱
溫度分辨率0.1℃
采用加熱控制一體式設(shè)計,配有防漏電開關(guān),安全可靠
設(shè)計過溫保護功能,確保使用過程中的安全
智能控制系統(tǒng),可分30個程序段控溫
帶真空吸附功能
技術(shù)參數(shù)
電壓: 220V 電流 50Hz-60Hz
加熱區(qū)域: 220*220(mm)
有效恒溫范圍: 200*200(mm)
控溫范圍: 室溫-200℃/室溫-300℃(可選)
溫度分辨率: 0.1℃
溫度均勻性: ±%1℃(封閉無氣流擾動狀態(tài)下)
頂針高度: 30mm(可以多段高度設(shè)置)
時間設(shè)置: 1s-3000s
功率: 2000W(9A)/2500W(9A)(可選)
蓋內(nèi)空高度 : 38mm
真空接口: 設(shè)備后板出口外徑6mm
真空輸入要求: -0.04~-0.09Mpa
線性升溫: 1-15℃/min,升溫速率可調(diào)
主機產(chǎn)品尺寸: 300*400*350(mm)/485*389*305(mm)(可選)