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該涂布設(shè)備用于在不同的基材上制備薄膜。對于薄膜制備實驗,科研人員通常要應(yīng)對各種性質(zhì)不同的溶液,并涂布出各種厚度的薄膜獲取數(shù)據(jù)或改進工藝。此時,多次同參數(shù)涂布制備出的試片批次內(nèi)一致性和批次間的重復(fù)性決定實驗結(jié)果的準確與否。本設(shè)備可以精密調(diào)節(jié)涂膜時間隙大小,涂布速度等參數(shù),利用光柵尺、位移傳感器等閉環(huán)反饋手段還能保證每次實驗時再現(xiàn)同樣的條件,極大程度清除回轉(zhuǎn)空程、傳動背隙、熱膨脹等不穩(wěn)定因素帶來的誤差,得到較佳實驗效果,提高科研效率。
技術(shù)參數(shù)
工業(yè)全彩觸屏友好人機界面,操作簡便
304高精度研磨面板,自帶真空吸附和氣動反吹取片功能
高精度直線電機系統(tǒng),精準控制速率
配備高精度標準線棒/光軸
帶FFU排風功能,保證內(nèi)部空氣有效循環(huán)流通
最大可容納基片尺寸:450*650mm
平臺平整度:<10um
運動平面度:<10um
刮刀升降分辨率:0.01mm
刮涂速度:1-1000mm/s
風刀系統(tǒng):均勻出風,氣源接口適用6*4mm氣管
電源輸入:AC220V
額定功率:2000W
該涂布設(shè)備用于在不同的基材上制備薄膜。對于薄膜制備實驗,科研人員通常要應(yīng)對各種性質(zhì)不同的溶液,并涂布出各種厚度的薄膜獲取數(shù)據(jù)或改進工藝。此時,多次同參數(shù)涂布制備出的試片批次內(nèi)一致性和批次間的重復(fù)性決定實驗結(jié)果的準確與否。本設(shè)備可以精密調(diào)節(jié)涂膜時間隙大小,涂布速度等參數(shù),利用光柵尺、位移傳感器等閉環(huán)反饋手段還能保證每次實驗時再現(xiàn)同樣的條件,極大程度清除回轉(zhuǎn)空程、傳動背隙、熱膨脹等不穩(wěn)定因素帶來的誤差,得到較佳實驗效果,提高科研效率。
技術(shù)參數(shù)
工業(yè)全彩觸屏友好人機界面,操作簡便
304高精度研磨面板,自帶真空吸附和氣動反吹取片功能
高精度直線電機系統(tǒng),精準控制速率
配備高精度標準線棒/光軸
帶FFU排風功能,保證內(nèi)部空氣有效循環(huán)流通
最大可容納基片尺寸:450*650mm
平臺平整度:<10um
運動平面度:<10um
刮刀升降分辨率:0.01mm
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風刀系統(tǒng):均勻出風,氣源接口適用6*4mm氣管
電源輸入:AC220V
額定功率:2000W